Wafer-Zentrierung
Herausforderung
Zur Zentrierung des Wafers oder zur Suche nach der Wafer-Notch/Flat muss der Wafer-Rand genau und schnell gemessen werden. Auch wenn der Wafer aus glänzendem Silizium oder transparentem Glas besteht - die Waferlage muss immer gleich erkannt werden.
Lösung
Der CCD-Algorithmus ermöglicht eine stabile und korrekte Erkennung des Wafer-Randes. Ein Hochgeschwindigkeits-CCD ermöglicht dies auch bei schnell drehenden Wafern. Unterstützungssoftware sorgt für problemlose Einrichtung und Überwachung.
Vorteile
Die schnelle und genaue Positionierung erlaubt eine Erhöhung des Durch-
satzes und verhindert den Wafer-Bruch. Zudem ist Handling von Silizium- und Glas-Wafer mit derselben Anlage möglich.
Applikationen & Lösungen
Strukturen auf Wafer aufzubringen erfordert Positionierung von höchster Genauigkeit. Da dieser Prozess, abhängig...
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Die Spezifikationen jeder Maschine müssen für jede Ferti- gungslinie festgelegt werden. Deshalb muss der Aufbau...
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Eine stabile FOUP Erkennung am Load Port mit einem optischen Sensor ist aufgrund der unter- schiedlichen Farben,...
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Um die Anwesenheit von Wafern in einem FOUP richtig zu erkennen, muss der Öffnungswinkel der Einweglichtschranke,...
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For 300 mm FOUP management, faulty reading of the carrier ID causes manufacturing-line stoppage. The...
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Das Wafer-Handling ist wichtig für die Prozesse und muss sicher, schnell und genau sein.
Beispiels- weise bei...
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Das Wafer-ID-Mana- gement ist ideal für die Rückverfolgung von Daten, doch ist das Dekodieren einer ID auf einem...
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