Messung der Stage-Position
Herausforderung
Nach langem Betrieb kann die Position der Stage-Base leicht verschoben sein, was negative Auswirkungen auf den ordnungsgemäßen Prozess hat.
Aus diesem Grund muss die Stage-Base regelmäßig neu ausgerichtet werden. Allerdings muss das Messsystem mechanische Interferenzen mit den Bewegungen der Stage-Base vermeiden.
Lösung
Omron bietet hochpräzise Kontakt-Abstandssensoren an. Sie ermöglichen eine Messung des Abstands der Stage-Base mit Submikron-Auflösung.
Zur Vermeidung von mechanischen Interferenzen ist ein Air-Push-Vakuum-Retractor erhältlich.
Vorteile
Diese Sensoren bieten nicht nur eine genaue Positionierung für den Langzeitbetrieb, sondern ermöglichen auch noch eine einfache Wartung.
Applikationen & Lösungen
Strukturen auf Wafer aufzubringen erfordert Positionierung von höchster Genauigkeit. Da dieser Prozess, abhängig...
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Um die Wafer ver- arbeiten zu können, muss die Plattform-Base in horizontaler Position gehalten werden.
Bei...
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Der Masken-SMIF-Pod (Standard Mechanical InterFace) wird ver- wendet, um die Mas- ken aus dem Litho-...
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Nach langem Betrieb kann die Position der Stage-Base leicht verschoben sein, was negative Auswirkun- gen auf den...
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